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KLA发布光学缺陷检测系统和eDR7380电子束缺陷检视系统

文章来源: 中电网       发布时间:2019-07-11

7月10日消息,KLA公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今日发布392x和295x光学缺陷检测系统和eDR7380电子束缺陷检视系统。这些全新的检测系统是我们公司旗舰产品系列——图案晶圆平台的进一步拓展,其检测速度和灵敏度均有提升,代表了光学检测的新水准。全新电子束检视系统的创新使其自身价值进一步稳固,并成为缺陷和发现其产生根源之间的必要一环。对于领先的3D NAND、DRAM和逻辑集成电路(IC),该产品组合将缩短整个产品周期,加快其上市时间。


KLA发布光学缺陷检测系统和eDR7380电子束缺陷检视系统


“为了有利润地制造下一代内存和逻辑芯片,对所需的制程控制要求之高也是前所未有的,”KLA国际产品部执行副总裁Ahmad Khan说。“元件结构变得更小、更窄、更高、更深,并且形状更为复杂以及材料更为新颖。将缺陷与其他无害的物理变化分开——也就是从噪声中分离出所需信号——已成为一个非常棘手的难题。我很高兴地宣布我们的光学和电子束工程团队开发了一系列创新的系统,将缺陷的检测和检视相结合,这将推动我们的行业继续向前发展。”


392x和295x光学图案晶圆缺陷检测系统在宽光谱等离子照射技术,传感器架构和整合芯片设计数据等方面都取得实质性的进步,其灵敏度、产量和良率相关的缺陷分类等功能都是业界翘楚。因此,与领先业界的前一代产品相比,新系统可以更为迅速地发现缺陷并提升良率,同时提供更为全面的在线监控。对于包括EUV光刻质量控制在内的各种检测应用,392x和295x系统可以提供不同的波长范围并涵盖从浅沟槽隔离到金属化的所有制程层。


凭借一流的图像质量和通过一次测试获得完整缺陷分布图的独特能力,eDR7380电子束晶圆缺陷检视系统可以在产品开发中更加迅速地捕获缺陷源,同时在生产制造中更快地检测偏移并且获取更为准确及可操作的数据。该系统能够对脆弱的EUV光刻工艺层进行检视。与KLA检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间,促进多种的KLA特定应用的使用,并通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。


KLA发布光学缺陷检测系统和eDR7380电子束缺陷检视系统


392x、295x和eDR7380系统都可用作新系统或者对上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系统进行升级。这些系统均具有未来的可扩展性,从而保护晶圆厂的资本投资。


所有新系统都已在全球领先的IC制造厂中安装运行,与其他机台一起共同用于制造创新的电子元件。为了确保芯片制造商所需的高性能和高生产效率,KLA全球综合服务网络将对392x、295x和eDR7380系统提供支持。有关新缺陷检测和检视系统的更多信息,请参阅产品组合信息页面。


关于 KLA-Tencor 公司


KLA-Tencor 公司(又称“KLA Corporation”或“KLA”)致力于开发领先业界的设备与服务,以及整个电子行业的创新。我们为晶圆和光罩制造、集成电路、封装、印刷电路板和平板显示提供先进的工艺控制和工艺支持解决方案。与全球领先的客户密切合作,我们的物理学家、工程师、数据工程师和问题解决专员组成专家团队,共同设计推动世界前进的解决方案。更多相关信息,请访问公司网站 https://www.kla.com/(KLAC-P)。


我们生活在纳米尺寸与全球化相互平衡的世界。 这样的微观和宏观视野给予我们独特的视角。 人类经历了信息大爆炸与工业转型,对未来科学技术的发展,我们乐观的期待更大变革的到来。去年我们在研发方面投入了6亿多美元,以此履行我们对解决最严峻技术挑战的承诺。 从1975年突破性的光罩检测设备为半导体工艺控制带来的曙光,到今天的宽带等离子技术能够快速发现缺陷 ("at the speed of light"),我们总喜欢保持领先积极的合作可以提升思维的敏捷程度。我们一直保持与合作伙伴们在战略、技术与经营等多方面的通力合作。跨越地理位置的限制,全方位凝聚集体智慧,快速开发最优化的解决方案。众所周知,我们具有从概念走向全球市场的能力。 通过自行开发、进行战略性收购以及跨系统技术共享,让我们的视角多样化 并扩大了我们的解决方案的范围。 优化全面的服务计划。


文章来源:中电网


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